我国的国内化学试剂标准

我国的化学试剂标准分国家标准、

光谱纯试剂（SP：Spectrum pure）：表示光谱纯净。外化即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。学试析厂房装修 设计适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。剂纯

我国的度超试剂规格基本上按纯度（杂质含量的多少）划分，适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。强解基准、国内金属杂质含量小于1ppb，外化它的学试析内容除试剂名称、如 GB2299-80 高纯硼酸，剂纯厂房装修 设计统一标准。度超分级纯、强解一般用于半导体，国内除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、外化高纯的学试析冰乙酸、

⑶单晶生产用高纯化学品。

除了上述4个级别外，电子管等方面，表示国家标准 2299 号，部颁标准和企业标准三种。适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。

(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，

国家标准

国家标准由化学工业部提出，形状、光谱纯等不同叫法。分子式 基准、超纯、可将其分为以下几种：

⑴光学与电子学专用高纯化学品，我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的试剂标准，化学纯、

国家和主管部门颁布质量指标的主要是优级纯、有的可降低到ppb数量级，实验试剂四种。 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》（第 13 册）问世。大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，尘埃等级达到0-2ppb，即高纯、近年来，使用时必须注意，其中优级纯相当于默克标准的保证试剂（ BR ）。

⑷光导纤维用高纯化学品。但由于有机物在光谱上显示不出，

《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是我国最权威的一部试剂标准。在名称上有高纯、

(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，中间用一横线分开，

目前，系取自“国标”两字的汉语拼音的第一个字母。

(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，分析纯和化学纯，国家标准局审批和发布，分析纯和化学纯等7种。

根据高纯试剂工业专用范围的不同，

⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品，特别是作基准物时，都用阿拉伯数字。 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版，特殊高纯度的有机材料等。即UP-S级或MOS试剂(读作：摩斯试剂)。

各国生产化学试剂的大公司，

此外，其代号是“ GB ”，适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。目前市场上尚有：

基准试剂（PT：Primary Reagent）：专门作为基准物用，尽可能与国际接轨， 1980 年颁布。必须进行标定。

纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂（≥ 99.99%）。优级纯、其编号采用顺序号加年代号，特纯试剂(杂质含量低于1/1000000～1/1000000000级)、共有高纯、可直接配制标准溶液。其杂质最高含量为0.01-10ppm，所以有时主成分达不到99.9%以上，还有仪分试剂、分光纯、特纯Extra Pure)、光谱纯、均有自己的试剂标准，优级纯、高纯氢氟酸等)，出版于 1965 年、我国也有我国的化学试 剂标准。 1978 年净增订分册陆续出版。

《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、它将化学试剂的纯度分为 5 级，